簡要描述:高溫高壓電化學腐蝕測試系統(tǒng)廣泛適用于連續(xù)相光催化,氣固相光催化,氣液反應光催化,在污染物降解,催化合成,硫化反應,熱催化等領(lǐng)域獲得很好的應用;
高溫高壓反應池可在受控環(huán)境下研究多相催化、氣固相互作用,光化學反應和氧化機理研究。通常高溫高壓反應池有2路氣口,一路進氣,一路出氣。通過進氣口給反應池充入高達10個大氣壓的氧氣、氮氣等氣體以達到高壓的要求。通過激光加熱樣品,實現(xiàn)樣品與高壓氣體反應后迅速通入液氮給腔體內(nèi)樣品降溫、淬火。為了防止低溫下反應池遇水汽結(jié)冰,須將反應池于超高真空腔體中。一方面反應池內(nèi)的高壓與真空腔體的真空環(huán)境形成巨大的壓力差,另一方面從液氮溫區(qū)到1000度高溫整個溫區(qū)內(nèi)反應池所選用材料會有很大的熱脹冷縮效應,這些都對真空腔體內(nèi)的反應池窗口密封以及多次重復密封都提出了嚴格的要求?,F(xiàn)有技術(shù)中,高溫高壓反應腔仍沒有解決問題的方案,也沒有高穩(wěn)定性,結(jié)構(gòu)簡單可重復使用的產(chǎn)品。
硬件程序控制和軟件雙重對溫度和壓力實行過限保護,在出現(xiàn)泄漏、功能失控、以及用戶預設的安全問題時連鎖保護,自動緊急卸壓,氣體報警。亦可根據(jù)用戶實驗條件和科研方向定制設計的反應器系統(tǒng),貼合終用戶的實際應用需求